XRF：X 射线荧光光谱
X 射线荧光 (XRF) 是一种无损分析方法，用于测定各种材料中的元素浓度。
XRF 的工作原理是用来自 X 射线管的 X 射线束撞击样品，导致样品中的每个元素发出特征 X 射线荧光。 检测器测量每个 X 射线的能量和强度（特定能量下每秒的 X 射线数量），使用非标准技术（例如基本参数或用户生成的校准曲线）将其转换为元素浓度.
元素的存在是通过元素的特征 X 射线发射波长或能量来识别的。 存在的元素量通过测量该元素的特征 X 射线发射强度来量化。
原子级
仪器水平
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结果可以百分比形式或频谱形式查看。 XRF 每秒将处理（数字化、计数）大约 200,000 或更多 X 射线。 这些检测到的 X 射线形成光谱。 光谱中的每个峰都来自特定元素（如 Cr 或 Ni 等）发射的特征 X 射线。峰高与元素的浓度成正比。 峰高通过校准方法转换为该元素的百分比或 ppm——基本参数或工厂或用户得出的经验校准（见下文）。
干扰
元素分析技术会遇到干扰，必须对其进行校正或补偿才能获得足够的分析结果。 在 XRF 光谱法中，主要干扰来自物质中的其他特定元素，这些元素会影响（矩阵效应）对感兴趣元素的分析。 然而，这些干扰是众所周知的，并且有据可查； 并且，系统软件中的仪器改进和数学校正可以轻松快速地纠正它们。 在某些情况下，样品的几何形状会影响 XRF 分析，但这很容易通过选择最佳采样区域、研磨或抛光样品或压丸来补偿。
定量元素分析
XRF 光谱法使用经验方法（使用与未知物性质相似的标准的校准曲线）或基本参数 (FP) 来进行元素定量分析。 首选 FP，因为它允许在没有标准或校准曲线的情况下进行元素分析。 这使分析人员能够立即使用该系统，而无需花费额外的时间为感兴趣的各种元素和材料设置单独的校准曲线。 FP 伴随着已知材料的存储库，不仅可以快速轻松地确定未知材料的元素组成，而且还可以识别未知材料。
光谱仪
SciAps 使用 EDXRF 光谱仪技术，因为它的机械简单且非常适合便携式现场使用。 EDXRF 系统通常包含三个主要组件：
1.激发源
2. 光谱仪/检测器
3. 和数据收集/处理单元
手持式 EDXRF 装置以坚固、易于使用的外形包含所有这三者。 手持式现场便携式 EDXRF 装置可直接用于样品，无论样品位于山洞中、山上、实验室中、墙上还是制造/加工厂中。 这些装置易于使用、分析时间短、初始购买价格较低，并且长期维护成本显着降低。
X 射线管照射固体或液体样品。
样品中的原子受到足够能量的 X 射线撞击，即大于原子的 K 或 L 壳层结合能，导致电子从原子的 K 或 L 壳层射出。
较高壳层中的电子通过发射能量并“跳下”到较低能级来填充 K 或 L 能级空位。
当电子下降到较低的 K 或 L 壳级时，它会向原子结构发射特定波长的光子（特征 X 射线）。
发射的光子（X 射线）由 XRF 分析仪上的能量色散检测器测量。 检测器和相关电子设备测量每个 X 射线的能量，并计算每秒在该能量下的 X 射线数量。 X 射线光谱由沿水平轴的能量和沿垂直轴的强度 (#/s) 组成。
机载处理器使用基本参数等无标方法或用户生成的（经验）校准曲线将 X 射线光谱与元素浓度相关联。
